ЛЕГИРОВАНИЕ АЛМАЗА, ВЫРАЩЕННОГО МЕТОДОМ ГАЗОФАЗНОГО ОСАЖДЕНИЯ

Изучение процессов и методов легирования
алмаза, выращенного методом газофазного осаждения (Chemical Vapor Deposition -
CVD) – одна из наиболее актуальных задач в алмазной электронике на сегодняшний
день. Понимание природы процесса легирования алмаза необходимо для
совершенствования электронных свойств алмаза и применения его как
полупроводникового материала в микроэлектронике. В представленной работе изложены
результаты исследования процессов легирования алмаза бором и азотом и предложены
новые методы легирования алмаза. Представлены результаты измерений концентрации
легирующих примесей и электронных свойств полученных алмазных слоев.

Ключевые
слова: алмаз,
газофазное осаждение, легирование

2014, Т. 57, № 5, Стр. 56-58