ВЗАИМОДЕЙСТВИЕ ПЛАЗМЫ СМЕСЕЙ ХЛОРОВОДОРОД - АРГОН, - ХЛОР, - ВОДОРОД С АРСЕНИДОМ ГАЛЛИЯ

Проведено исследование плазмохимического травления GaAs в смесях
HCl-Ar, HCl-Cl2 и HCl-H2 в условиях тлеющего разряда
постоянного тока. Показано, что скорость травления GaAs при разбавлении HCl
аргоном и водородом уменьшается быстрее, чем концентрация атомов хлора. В
смесях HCl-Cl2 скорость травления проходит через максимум при
содержании хлора порядка 75%. На возрастающем участке кривой скорость травления
пропорциональна потоку атомов хлора, а после прохождения максимума лимитирующей
стадией становится десорбция продуктов травления под действием ионной
бомбардировки.

Ключевые
слова: плазма,
излучение, травление, концентрация, хлористый водород, аргон, хлор, водород

2014, Т. 57, № 8, Стр. 44-47