АНОДНЫЕ ПРОЦЕССЫ НА NiSi-ЭЛЕКТРОДЕ В РАСТВОРАХ ГИДРОКСИДА НАТРИЯ

Методами поляризационных и импедансных измерений исследовано анодное
поведение NiSi-электрода в растворах 0,1-5,0 М NaОН в области от потенциала
коррозии до потенциала выделения кислорода. Сделан вывод, что в щелочном
электролите имеет место селективное растворение кремния из силицида никеля.
Высокое химическое сопротивление NiSi обусловлено формированием на его
поверхности пассивирующей пленки, состоящей преимущественно из малорастворимых
продуктов анодного окисления никеля (возможно небольшое содержание диоксида
кремния и силикатов). Предложена эквивалентная электрическая схема,
моделирующая пассивное состояние силицида.

Ключевые слова: силицид никеля NiSi, пассивация, щелочной
электролит, импеданс

2016, Т. 59, № 2, Стр. 64-69