СРАВНИТЕЛЬНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ ПАРАМЕТРОВ И СОСТАВА ПЛАЗМЫ В СМЕСЯХ CF4, Cl2 И HBr + Ar

DOI: 
10.6060/tcct.20165910.5431

Изв. вузов. Химия и хим. технология. 2016. Т. 59. Вып. 10. С. 11-18

В данной работе обсуждаются
электрофизические параметры и химия плазмы в системах CF4 + Ar, Cl2
+ Ar и HBr + Ar при одинаковых условиях возбуждения разряда. Исследования
проводились методами диагностики плазмы зондами Лангмюра и моделирования плазмы
в условиях планарного индукционного плазмохимического реактора при постоянном
давлении газа (10 мТор), вкладываемой мощности (800 Вт) и мощности смещения
(300 Вт), но при варьируемой (0-80%) доле Ar в плазмообразующей смеси. Основное
внимание уделялось параметрам, определяющим стационарные концентрации активных
частиц плазмы (температура электронов, концентрация электронов, константы
скоростей реакций под действием электронного удара) и кинетику гетерогенных ионно-стимулированных
химических реакций (потоки атомов галогенов, энергия ионной бомбардировки,
поток энергии ионов).

Ключевые слова: CF4, Cl2, HBr, плазма, константа скорости,
скорость реакции, поток атомов галогенов, поток энергии ионов

2016, Т. 59, № 10, Стр. 11-18