НЕКОТОРЫЕ АСПЕКТЫ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ МИКРОСХЕМ: ЗАКОНЫ МУРА, МЕЖДУНАРОДНАЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКАЯ КАРТА ДЛЯ ПОЛУПРОВОД-НИКОВ И ОСНОВНЫЕ ВЫЗОВЫ В СОВРЕМЕННОЙ ТЕХНОЛОГИИ ПРОИЗВОДСТВА ИНТЕГРАЛЬНЫХ МИКРОСХЕМ

Yehiel Gotkis

doi:10.6060/tcct.20165911.5503

Yehiel Gotkis Yehiel Gotkis Consulting

DOI: https://doi.org/10.6060/tcct.20165911.5503

Ключевые слова: полупроводники, микросхема, SoC, законы Мура, международная технологическая карта для полупроводников, технология производства микросхем, исследование и развитие по-лупроводников, полупроводниковый бизнес

Аннотация

данном кратком обзоре рассматриваются и обсуждаются некоторые главные проблемы производства полупроводниковых микросхем, такие как 1-й и 2-й законы Мура, международная технологическая карта для полупроводников, последние тренды технологии производства, исследования и развитие и текущие производственные вызовы такие как проблемы фундаментальные (Пуассоновский дробовой шум – статистическая флюктуация- для ряда частиц типа атомов, заполняющих элементарный безразмерный объем ), технологические проблемы –улучшенная технология структуры и литография экстремального ультрафиолета, конструирование оборудования для производства современных микросхем и имеющие к этому отношение бизнес факторы (экстремально высокая стоимость производства и возможности исследований и развития).

Литература

http://www.nytimes.com/2015/09/27/technology/smaller-faster-cheaper-over-the-future-of-computer-chips.html?_r=0.

http://ark.intel.com/products/94456/Intel-Core-i7-6950X-Processor-Extreme-Edition-25M-Cache-up-to-3_50-GHz.

Moore G.E. Cramming more Components onto ICs. Electronics. 1965. 38 (8) (reproduced in Proc. IEEE, 86, 82 (1998)).

https://en.wikipedia.org/wiki/Moore%27s_law.

http://ark.intel.com/products/family/91287/Intel-Xeon-Processor-E5-v4-Family#@All.

http://www.itrs2.net/uploads/4/9/7/7/49775221/irc-itrs-mtm-v2_3.pdf.

https://en.wikipedia.org/wiki/Continual_improvement_process.

https://en.wikipedia.org/wiki/Bleeding_edge_technology.

https://www.umass.edu/wsp/resources/poisson.

http://www-03.ibm.com/ibm/history/ibm100/us/en/icons/cop-perchip.

https://en.wikipedia.org/wiki/Photolithography.

https://en.wikipedia.org/wiki/Photoresist.

https://en.wikipedia.org/wiki/Immersion_lithography.

https://en.wikipedia.org/wiki/Multiple_patterning.

https://en.wikipedia.org/wiki/Extreme_ultraviolet_lithography.

http://www.ece.umd.edu/class/enee416/GroupActivities/Lithography%20Presentation.pdf.

https://en.wikipedia.org/wiki/Extreme_ultraviolet_lithography#cite.

https://en.wikipedia.org/wiki/Chemical-mechanical_planarization.

http://www.nist.gov/pml/div683/conference/upload/Villarrubia_2005.pdf.

Koshelev K., ISAN ... Extreme Ultraviolet Source at 40 nm with Alkali Metal Vapor for Surface ... https://www.euv-litho.com/2010/Abstracts%202010%20EUV%20Source%20Workshop.pdf and references therein.

http://biography.yourdictionary.com/arthur-rock.

https://en.wikipedia.org/wiki/Rock%27s_law - cite_note-2

https://en.wikipedia.org/wiki/Obsolescence.

Standborn P. (April 2008). "Trapped on Technology's Trail-ing Edge". IEEE Spectrum. Retrieved 2011-11-27.

"Intel to build fab for 14-nm chips". EE Times. Jump up^ "Intel shelves cutting-edge Arizona chip factory". Reuters. January 14, 2014.

https://en.wikipedia.org/wiki/Wafer_(electronics).

https://en.wikipedia.org/wiki/Semiconductor_fabrication_plant.

https://www.semiwiki.com/forum/content/2554-globaliza-tion-semiconductor-manufacturing-industry.html.

http://www.bloomberg.com/news/articles/2015-10-21/lam-research-agrees-to-acquire-kla-tencor-in-10-6-billion-deal.

http://www.forbes.com/sites/jimhandy/2014/05/28/the-3-reasons-semiconductor-experience-revenue-cycles/#619d91d548e1.

https://en.wikipedia.org/wiki/Semiconductor_fabrication_plant.

http://semiengineering.com/will-7nm-and-5nm-really-happen.